Hydrofluoroether (HFE) คือสารเคมีในกลุ่มของ fluorinated ethers ซึ่งมีการใช้ในหลากหลายอุตสาหกรรม โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมการทำความสะอาดและการทำความเย็น เนื่องจาก HFE มีคุณสมบัติที่ไม่เป็นพิษ ไม่ทำลายชั้นโอโซน (Ozone) และมีคุณสมบัติในการระเหยที่ดี จึงทำให้มันเป็นทางเลือกที่ดีในบางกระบวนการที่ต้องการสารทำความสะอาดที่ไม่ทิ้งคราบและไม่เป็นอันตรายต่อสิ่งแวดล้อม

​

คุณสมบัติของ Hydrofluoroether ประกอบด้วย:

• ไม่มีพิษ : ไม่เป็นอันตรายต่อสุขภาพ และค่าความเป็นพิษต่ำมากเมื่อเทียบกับแอลกอฮอล ทำให้มันเป็นทางเลือกที่ปลอดภัยในการใช้งานในสภาพแวดล้อมที่มีคนทำงานในโรงงานหรือห้องที่ต้องการความปลอดภัยสูง

• ไม่ทำลายชั้นโอโซน : ไม่มีผลกระทบต่อการทำลายชั้นโอโซน (zero ODP)

• จุดเดือดต่ำ : ใช้ในการทำความสะอาดอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ หรือกระบวนการที่ต้องการให้สารระเหยไปเร็ว

• ไม่ติดไฟ : ปลอดภัยต่อการใช้งาน โดยเฉพาะเกี่ยวกับการล้างด้วยไอ (Vapor Degrasing) 

• คุณสมบัติในการละลายที่ดี : HFE สามารถละลายสารสกปรก เช่น ฝุ่น โลหะ หรือสารที่ติดอยู่บนพื้นผิวของวัสดุ แม้กระทั้งงานที่ต้องการความละเอียดสูงอย่างชิปเซมิคอนดักเตอร์ ซึ่งช่วยในการทำความสะอาดอย่างมีประสิทธิภาพอย่างมาก

• ปลอดภัยต่อสภาพแวดล้อม : โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมการผลิตที่ต้องการสารทำความสะอาดที่ไม่ทิ้งสารตกค้าง​ และมีผลต่อสภาวะโลกร้อนต่ำ (Low GWP) จึงเป็นตัวเลือกที่ดีในการทดแทนสารเคมีที่อาจทำให้เกิดผลกระทบต่อสิ่งแวดล้อม เช่น CFCs หรือ HCFCs ที่เคยใช้ในอุตสาหกรรมในอดีต

​

การใช้งานของ HFE ในอุตสาหกรรมต่างๆ:

1. อุตสาหกรรม Semiconductor

   • การทำความสะอาดชิป (Wafer Cleaning): ใช้ในการทำความสะอาดพื้นผิวเวเฟอร์ที่ใช้ในการผลิตชิป โดยการล้างสิ่งสกปรกจากกระบวนการต่างๆ เช่น การกัดกร่อน

   • การทำความสะอาดเครื่องมือและอุปกรณ์: ใช้ในการทำความสะอาดเครื่องมือที่ต้องการความสะอาดสูง เช่น แม่พิมพ์ หรือเครื่องมือที่ใช้ในกระบวนการผลิตชิป

   • Non-Aqueous Cleaning: ใช้ในการล้างโดยไม่ใช้น้ำ ซึ่งช่วยลดการสะสมของน้ำที่อาจทำให้เกิดการกัดกร่อนบนชิป

   ข้อดีในงาน Semiconductor:

   • ความปลอดภัยสูงเพราะไม่มีพิษ

   • คุณสมบัติทำความสะอาดที่ดี

   • ไม่ทำลายสิ่งแวดล้อม เนื่องจากไม่ทำลายโอโซนและมีผลกระทบต่อสิ่งแวดล้อมต่ำ

2. การทำความสะอาดระบบอิเล็กทรอนิกส์และวงจร

   • HFE ใช้ในการทำความสะอาดอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เช่น แผงวงจรและเครื่องมือควบคุมอิเล็กทรอนิกส์ ที่ต้องปราศจากฝุ่นหรือสิ่งปนเปื้อนที่อาจกระทบต่อการทำงาน

3. การทำความสะอาดชิ้นส่วนในอุตสาหกรรมการผลิตเครื่องบินและยานอวกาศ

   • ใช้ในกระบวนการทำความสะอาดชิ้นส่วนเครื่องยนต์หรือชิ้นส่วนที่สำคัญ เช่น เครื่องยนต์หรือระบบไฮดรอลิก เพื่อหลีกเลี่ยงการปนเปื้อนที่อาจส่งผลต่อการทำงานและประสิทธิภาพของเครื่องจักร

   นอกจากนี้ยังใช้ในกระบวนการผลิตหรือซ่อมบำรุงอุปกรณ์ในยานอวกาศ โดยเฉพาะการทำความสะอาดอุปกรณ์ที่ละเอียดอ่อน เช่น เซ็นเซอร์และเครื่องมือวิจัย

4. การใช้ในงานพิสูจน์หลักฐาน (Forensic)

   • ใช้ในการทำความสะอาดวัสดุที่บอบบาง เช่น ฟิล์มภาพถ่าย หรือเซ็นเซอร์ เพื่อไม่ทำลายพื้นผิวหรือคุณสมบัติของหลักฐาน

   • HFE ช่วยในการเก็บรักษาหลักฐาน เช่น เส้นด้ายผม หรือเส้นเลือด จากสถานที่เกิดเหตุ โดยไม่ทำให้เกิดการปนเปื้อนหรือความเสียหาย​​

​